尽管困难和阻力越来越大，Intel以其无以伦比的技术实力，仍在努力推进半导体工艺的深发展，14nm刚刚开始登场，就已经在大谈特谈7nm了。
EUV就是极紫外光刻。这十几年来，半导体工艺虽然在不断进步，但是核心光刻技术一直没有实质性的突破，还是老一套，EUV就是众望所归的下一站，但其难度之大就连Intel也是异常吃力，结果一拖再拖，至今遥遥无期。
Intel认为，EUV技术已经来不及用于10nm，甚至7nm上都很难说，尽管很多人对此抱着很大的期望。
Bohr进一步解释说： 我对EUV非常感兴趣，真的能帮助工艺进步，部分时候还能将三四个遮罩缩减为一个，但不幸的是，它还没有做好准备，产能和可靠性还不够。
Bohr没有透露如何在没有EUV的情况下实现10nm、7nm，不过他指出Intel 14nm在一个或多个关键层上使用了新的三重曝光技术。
他还表示，2015年底的时候，Intel会安排部分代工客户体验尝鲜一下10nm，这也暗示新工艺产品将无法按原计划推出，得等到2016年了。如此乐观估计，7nm至少得2018年。